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减少直拉晶片中氧缺陷的新技术

2025-01-04 09:34  浏览:  

台湾国立勤益科技大学的研究人员设计了一种新型加热器,旨在控制和降低直拉硅晶体生长设备中的氧浓度。经过模拟和实验验证,该设计成功使氧气减少了6个百万分率(Ppm)原子。

对于多晶硅和单晶硅光伏应用,氧是一个关键的杂质问题,会导致氧化硅的形成,增加晶体硬度,使下游加工变得复杂。研究第一作者阿米尔·雷扎·安萨里·德兹福利(Amir Reza Ansari Dezfoli)指出,氧缺陷还会缩短体积寿命,增强位错处的复合活动。

德兹福利表示,研究团队专注于通过修改Czochralski(CZ)拉晶机中的加热器设计来控制氧杂质。他们发现,仅通过简单改变加热器设计配置,即可显著降低氧原子浓度。

研究团队首先通过模拟研究了加热器设计和热源分布,然后在实验装置上进行测试验证。模拟基于直径为200毫米、长度为700毫米的硅锭CZ晶体生长,采用四种不同的加热器设计,加热器由石墨制成,顶部长度从500毫米到200毫米不等。

上海油压工作室实验装置使用了500毫米的加热器高度(H1),并通过傅里叶变换红外光谱(FTIR)数据分析测量了锭中心线沿轴向晶体中的氧浓度。验证比较证实了模拟和实验数据之间的高度一致性。

上海油压工作室研究得出结论,加热器设计显著影响温度分布和熔体模式,进而影响氧气分布及其传输机制。改变H1长度对氧气分布有显著影响。

目前,该团队正在准备推出第一个离散模型,用于模拟CZ工艺中晶体起源粒子(COP)的形成和空洞缺陷的形成。这将为硅片生产行业提供基于模拟的质量控制新可能性。

相关研究成果已发表于《热能工程案例研究》杂志的《CZ硅生长中氧还原加热器设计的工程见解》一文中。

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